光催化系統是光催化劑在外光作用下的化學反應，光催化劑在光照條件下(可以是不同波長的光)。自1972年以來，在半導體TiO2電極發現了水的光催化分解，從而開辟了半導體光催化的新領域。1977年，Yokota研究發現，二氧化鈦在光照條件下對丙烯環氧化具有光催化活性，擴大了光催化的應用范圍，為有機氧化反應提供了新的思路。從那時起，光催化技術被用于能源制氫.二氧化碳還原，光催化制氫在解決環境和能源問題方面具有廣闊的應用前景。

當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時，半導體的價格帶電子從價格帶轉變為光生電子(e-)和空穴(h+)。這時，吸附在納米顆粒表面的溶解氧捕獲電子形成超氧負離子，孔隙將吸附在催化劑表面的氫氧離子和水氧化成氫氧自由基。

隨著全球化石能源的枯竭，環境問題日益嚴重，嚴重制約了人類的可持續發展。

光催化系統特征：

1.非真空：光解水制氫在常溫常壓下實現。

2.簡單不漏氣：配套設備少，操作方便，維護方便。無真空玻璃管，無復雜安裝。無閥門，無漏氣。

3.重復性好：直接測量產氣量(產氣率)，避免因氣體循環不良引起的測量誤差，實驗重復性好。

4.測量產量可達到8000mmol/g/h，適用于各種產率催化劑系統的研究。

5.自動測量：RTKGMC技術，無需實時自動記錄測量數據，GC，沒有校準誤差。

6.不需要計算:避免計算傳統裝置產氫量的誤差，直接測量產氫量(或質量).不需要計算產氫率)。

7.模擬工業環境：非真空環境更接近真實工業環境，在工業條件下可以探索光解水制氫。

8.多通道：多通道裝置可根據客戶的科研需求定制，有利于平行實驗。

技術參數：

1.工作環境：常溫常壓。

2.測量精度：0.0350mL。

3.測量程:0-80000mmol/g/h。