光催化系統的特征及工藝參數

下面小編給大家介紹一下光催化系統的特征及工藝參數。

光催化系統的特征

非真空性：在常溫常壓下實現光解制氫；

簡單易行，不漏氣：配套設備少，操作和維護容易。不需復雜安裝的真空玻璃管道。沒有閥，沒有氣體泄漏；

重現性好：直接測量氣體產生量(氣體產生率)，避免了傳統裝置由于氣體循環不暢造成的測量誤差，實驗重現性更好；

高量程：測定收率可達800mmol/g/h，適用于研究不同收率的催化劑體系；

自動測量：RTKGMC技術，能實時自動記錄測量數據，不需GC，無校準誤差；

不需計算：避免傳統裝置的氫氣產量計算誤差，直接測量氫氣產量(或質量、氫氣產量)即可；

模擬工業環境：非真空環境更接近實際工業環境，可探索工業環境下光解水制氫；

多通道：可以根據客戶的研究需求，定制適合于平行實驗的多通道裝置。

光催化系統的工藝參數

工作環境：一是常溫常壓；

測量技術：GMC技術；

測量精度：0.0350毫升/秒；

測量范圍：0-800mol/g/h；

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